Beschreibung
Chipheizer aus Siliziumnitrid sind typischerweise rechteckig, innerhalb unseres Matrizendurchmessers
von 300 mm können verschiedene Maße und Losgrößen hergestellt werden. Die Eigenschaften der
Keramik und die geringe Masse ermöglichen schnelle Aufheizraten, eine homogene Temperatur-
verteilung und sehr gute Regelgenauigkeit. Kleine Heizelemente können geregelt mit einer sehr hohen
Oberflächenleistung betrieben werden und erlauben hohe Prozesstaktzeiten.
Aufgrund der geringen Wärmedehnung der Keramik bleibt die Oberfläche auch bei Temperaturwechsel-
betrieb im Vergleich zu Metallen sehr eben. Die hohe Festigkeit des heißgepressten Siliziumnitrids
erlaubt eine hohe Beanspruchung (z.B. bei Druckbelastung) bei sehr geringem Verschleiß. Wir bieten
Miniaturheizer für den Betrieb an Luft bis 500 °C und mit kalter Zone bis 1000 °C an.
Kundenspezifisches Design
Unser hauseigenes Design bietet eine Anpassung der Größe und Bauform und Leistung, sowie das
Einbringen von Bohrungen für Halterung und Temperaturregelung oder Ansaugleitungen, außerdem sind
gelaserte Vakuumrillen möglich. Die Chipheizer werden flachgeschliffen, können aber für besondere Anforderungen auch auf < 10 μm Ebenheit bearbeitet werden. Ebenfalls sind abweichende Konturen
möglich, die der Form des zu beheizenden Bauteils angepasst werden können.
Diese können als Spitze (Pointheater) oder abgesetzte Fläche ausgeführt werden. Heizflächen < 1 mm²
können somit realisiert werden. Miniaturheizer können für den Betrieb an Kleinspannung ausgelegt werden.
Anwendungsbereiche
Keramische Miniaturheizer finden Anwendung bei:
- Halbleiterherstellungsanlagen (z.B. Bonder)
- Handling von Bauteilen, Bestückung von Leiterplatten
- Lötanlagen und Entlötvorrichtungen
- Düsenbeheizungen
- Verpackungsmaschinen (z.B. punktuelles Verschweißen)
- Medizintechnik
- Maschinenbau
- Werkzeugbeheizung
Diagramme
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